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高真空電子束蒸發鍍膜機是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。
可用于生產、科學實驗及教學，可根據用戶要求專門訂制。
可根據用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式, 通過PLC 和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等，從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
設備特點
設備具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點，配備 E 型電子束蒸發源和電阻蒸發源。PID自動控溫，具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優點。
可根據用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式,通過PLC和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等，從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
真空性能
極限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa
設備總體漏放率：關機12小時，≤10Pa
恢復工作真空時間短，大氣至7×10-4Pa≤30分鐘；
設備構成
E 型電子束蒸發槍、電阻熱蒸發源組件（可選配）、樣品掩膜擋板系統、真空獲得系統及真空測量系統、分子泵真空機組或低溫泵真空機組、旋轉基片加熱臺、工作氣路、樣品傳遞機構，膜厚控制系統、電控系統、恒溫冷卻水系統等組成。
可選件：膜厚監控儀，恒溫制冷水箱。
熱蒸發源種類及配置
| 項目 | 參數 | 備注 |
|---|---|---|
| E 型電子束蒸發系統 | 1套 | |
| 功率 | 6kW～10kW | 其它功率(可根據用戶要求選配） |
| 坩堝 | 1～8只 | 可根據用戶要求選配 |
| 電阻熱蒸發源組件 | 1～4套 | （可根據用戶要求配裝） |
電阻熱蒸發源種類
-鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發源組件
-石英舟熱蒸發源組件
-鎢極或鎢藍熱蒸發源組件
-鉭爐熱蒸發源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）
-束源爐熱蒸發組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）
操作方式
手動、半自動
